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N32905U1DN

發布時間:2019/10/14 11:33:00 訪問次數:48發布企業:深圳市鵬順興科技有限公司

N32905U1DN 新塘原裝正品現貨

品牌:NUVOTON

封裝:LQFP128

批次:2019年

包裝:720一盒

深圳市鵬順興科技有限公司 供應新塘全新原裝正品公司現貨,一級代理,價格優惠!




【產品簡介】

N32905U1DN基于ARM926EJ-S內核,并且集成了JPEG編解碼器,CMOS傳感器接口,32通道SPU(Sound Processing Unit),ADC,DAC,可有效降低BOM成本。N32905U1DN內部集成的32MB DDR內存,2D加速器,CMOS圖像傳感器,LCD控制器,USB 1.1 Host和USB 2.0 HS Device可理想用于帶液晶屏的教育產品,HMI人機界面,家電,廣告等。N32905U1DN的液晶屏控制器可支持到XVGA(1024x768),集成的2D加速器可加速圖形運算,并降低CPU負載。

N32905U1DN定位于需要高性價比的應用場合,特別是同時需要圖像顯示與CMOS圖象采集的領域,N32905在軟件方面提供了基于ADS的完整的片上外設使用演示,還提供了Linux操作系統和驅動,可加速產品開發。

【CPU 性能】

CPU架構:ARM926EJ-S 工作電壓:系統3.3V,內核1.8-2V 工作頻率:240MHz(@2V內核) 存儲器:32MB片上DDR 調試接口:JTAG調試接口,還可以通過USB口下載程序 片上外設:USB 2.0HS Device,USB 1.1 HOST,2×UART,SPI,I2C,ADC,DAC,LCDC,CMOS接口,JPEG編解碼器等 封裝:LQFP128

【軟件資源】

提供N32905U1DN芯片數據手冊下載;


評價在半導體器件或微電各芯片中鋁金屬化層上淀積的介質薄膜

發布時間:2019/5/24 19:41:23 訪問次數:8776

玻璃鈍化層完整性栓查主要是對玻璃鈍化層中的裂縫、空洞和針孔進行評估,其日的是評價在半導體器件或微電各芯片中鋁金屬化層上淀積的介質薄膜(如化學汽相淀積、濺射或電子束蒸發形成的玻璃鈍化層或氮化物等)的結構質量,用來鑒別與工藝和材料有關的玻璃鈍化層缺陷,這些缺陷會造成局部污染物堆積并使玻璃鈍化的器件失去抗電遷移的優越性。本試驗為破壞性試驗。

G5V-2-DC5V

試驗標硅

玻璃鈍化層完整性檢查參考標準主要為GJB548方法⒛21。

試驗儀器

本試驗所需設備包括保證操作人員安全所需的適當的樣品處理和化學腐蝕裝置,還包括GJB548方法⒛10中所采用的標準光學顯微鏡,以及腐蝕用的標準試劑和其他化學藥品等。



以下為公司部分現貨:

評價在半導體器件或微電各芯片中鋁金屬化層上淀積的介質薄膜

發布時間:2019/5/24 19:41:23 訪問次數:8776

玻璃鈍化層完整性栓查主要是對玻璃鈍化層中的裂縫、空洞和針孔進行評估,其日的是評價在半導體器件或微電各芯片中鋁金屬化層上淀積的介質薄膜(如化學汽相淀積、濺射或電子束蒸發形成的玻璃鈍化層或氮化物等)的結構質量,用來鑒別與工藝和材料有關的玻璃鈍化層缺陷,這些缺陷會造成局部污染物堆積并使玻璃鈍化的器件失去抗電遷移的優越性。本試驗為破壞性試驗。

G5V-2-DC5V

試驗標硅

玻璃鈍化層完整性檢查參考標準主要為GJB548方法⒛21。

試驗儀器

本試驗所需設備包括保證操作人員安全所需的適當的樣品處理和化學腐蝕裝置,還包括GJB548方法⒛10中所采用的標準光學顯微鏡,以及腐蝕用的標準試劑和其他化學藥品等。

以下為公司部分現貨:

N32926U1DN N32905U1DN NANO110KE3BN NANO130KE3BN NANO130SE3BN NANO110SE3BN SC16IS752IBS SC16IS850LIBS SC16IS740IPW IPB180N04S3-02 N32905U1DN N32905U1DN N32905U1DN N32905U1DN N32903U1DN 等等


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